Descripción
El horno de tubo horizontal CVD (carburo de silicio) utiliza el metiltriclorosilano (MTS) como fuente de aire para fabricar materiales de revestimiento con superficies resistentes a la oxidación y para modificar los caracteres del material matriz.
Características Técnicas
1. Durante el proceso de deposición se trata de manera efectiva el gas residual altamente corrosivo, el gas explosivo e inflamable, el polvo sólido y el material de punto bajo de fusión.
2. El horno de deposición química de vapor utiliza una cámara de deposición de diseño especial, lo que asegura un buen efecto de sellado y una fuerte capacidad anticontaminante.
3. Se adopta la más avanzada tecnología para un control preciso del flujo y la presión del metiltriclorosilano (MTS), realizando una deposición estable de flujo de aire y un rango estrecho de presión de fluctuación.
4. El nuevo diseño de la unidad de vacío anticorrosivo asegura un trabajo de periodo continuo y una baja proporción de mantenimiento.
5. Las ventanas múltiples de deposición alcanzan una homogeneidad del flujo de campo, sin deposiciones en las esquinas inactivas y un mejor efecto de deposición.
6.El área de trabajo debe ser de 2,5m × 2,5m × 5m，a fin de dar espacio a las grandes dimensiones del horno CVD
Configuración Opcional del Horno de Tubo Horizontal CVD
1. Puerta de Horno: Tipo visagra giratoria/ corredera, Cerradura manual/ cerradura automática con collar de bloqueo.
2. Recipiente de horno: Todo de acero al carbono/ Capa interna de acero inoxidable/ Completamente de acero inoxidable.
3. Zona candente de horno: Fieltro de carbono ligero/ Fieltro de grafito ligero/ Fieltro duro compuesto /CFC.
4. Componente calefactor y mufla: Grafito isostático prensado / Pureza de prensa alta, grafito de densidad y fuerza/ grafito de tamaño fino.
5. Sistema de proceso de gas: Flujómetro de volumen/masa, válvula manual/automática, marca importada/china
6. Bomba de vacío y calibre: marca importada/marca china.
7. HMI: pantalla de simulación/táctil/Computador industrial personal.
8. PLC (Control Lógico Programable): OMRON/Siemens.
9. Controlador de temperatura: SHIMADEN/EUROTHERM
10. Termopar: Tipo C, S, K, N.
11. Registrador: Registrador sin papel/con papel, marca importada/china.
12. Componentes eléctricos: CHINT/Schneider/Siemens.
13. Camión de carga: tipo rodillo / tipo horquillas/ tipo plegado de conducción a larga distancia.
Especificaciones Técnicas del Horno de Deposición Química de Vapor
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Espec/Modelo
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HCVD-060609-SIC
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HCVD-080812-SIC
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HCVD-101015-SIC
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HCVD-121225-SIC
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HCVD-151530-SIC
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Dimensiones del área de trabajo (W × H × L) (mm)
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Φ600 × 600 × 900
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Φ800 × 800 × 1200
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Φ1000 × 1000 × 1500
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Φ1200 × 200 × 2500
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Φ1500 × 500 × 3000
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Temperatura máxima(°C)
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1500
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1500
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1500
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1500
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1500
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Temperatura uniforme (Cº)
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±7,5
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±7,5
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±7,5
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±10
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±10
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Vacío final (Pa)
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50
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50
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50
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50
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50
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Rango de aumento de presión(Pa/h)
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0,67
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0,67
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0,67
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0,67
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0,67
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Los parámetros anteriores pueden ser ajustados según los requisitos del proceso, y no tienen que ser aceptados como estándar. Los detalles y especificaciones requeridos serán registrados en la propuesta técnica y los contratos.
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