説明縦型炉CVD（炭素）炭素源として（例えばC3H8など）、炭化水素ガスを用いた複合材料のCVDのために使用されます。彼は材料のCVDとCVI治療に動作しますcarbono.
技術的特徴1 temperatura. の良好な均質性を確保する、作業領域の大きさに応じて温度制御の異なるゾーンを使用
2.技術の最も高度な制御フロー制御及びメチルトリクロロシラン（MTS）の圧力は、気流の安定した堆積および変動presión. の小さな範囲を作り、採用されています
3.真空ユニット防食の新しい設計は、連続的な作業時間とmantenimiento. の低いレートを保証します
4.垂直真空炉炭素は最大の保護との良好なシール効果と動作を保証堆積チャンバ特別なデザインを使用しanticontaminante.
5.複数のWindows沈着、非アクティブなコーナーや、表面には堆積物を流れ場の均一性を確保しないdeposición
前記廃ガス高度に腐食性、爆発性及び可燃性ガス、固体粉末と低融点の生成物は、プロセス中に効果的に処置されdeposición.
オプションの縦型CVD炉の設定1.ゲートオーブン：ネジ式リフト/油圧/手動手動ロック/自動ロックカラーbloqueo.
2.コンテナオーブン：inoxidable のためのすべての炭素鋼/ステンレス鋼内層/スチール
3.ホットゾーン炉柔らかいフェルトカーボン/グラファイト、ソフト/ハード化合物フェルト/ CFC フェルト
4.コンポーネント加熱マッフル：グラファイト静水圧プレス/高純度プレス/グラファイト密度、高強度/サイズグラファイトfino
5.システムプロセスガス：流量計の体積/質量、手動/自動弁インポートマーク/ china マーク
6.真空ポンプとゲージ：輸入マーク/マークchina
7. HMI：シミュレーション画面/タッチ/産業用コンピュータpersonal
8. PLC（プログラマブル・ロジック・コントロール）：オムロン/ Siemens
9.温度コントローラ：シマデン/ EUROTHERM
10.熱電対：タイプC、タイプS、タイプR、タイプB
11.レコーダー：ペーパーレスレコーダー/紙、輸入マーク/ china をマーク
12.電気部品：CHINT /シュナイダー/ Siemens
仕様真空炉カーボン垂直| 仕様/モデル | VCVD-0305-C | VCVD-0608-C | VCVD-0812-C | VCVD-1015-C | VCVD-1120-C | VCVD-1520-C | VCVD-2632 - C |
| 作業領域の寸法（D×H）（MM） | 500×Φ300 | 800×Φ600 | 1200×Φ800 | 1500×Φ1000 | 2000×Φ1100 | 2000×Φ1500 | 3200×Φ2600 |
| 最高温度（°C） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 均一な温度（℃） | ±5 | ±5 | 7.5± | 7.5± | ±10 | ±10 | ±15 |
| 究極の真空（PA） | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
| 圧力上昇（PA /時間）の範囲 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| 上記のパラメータは、プロセスによって要求されるように調整することができ、そして標準として受け入れられる必要はありません。必要な詳細及び仕様は、技術提案書や契約に記録されます。 |
