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水平CVD炉(C)

水平CVD炉(C)
説明
水平炉CVD(炭素)CVI及びCVD処理材料で働く、炭素源として(例えばC3H8のような)CVD炭化水素ガスを用いた複合材料に適用されるcarbono. 

技術的特徴
1.オーブンの作業領域の大きさは、CVDはgrandes. のサイズ部品の治療を満たすことができ2.5メートル×5メートル×2.5メートルに達します
2.真空炉炭素はtemperatura. の大きな均質性を有する複数のゾーン温度制御を採用しています
3.堆積室特別なデザインは、優れたシール効果と強力な能力を実現しanticontaminante. 
4.複数のWindows堆積確保均質場の流れは非アクティブ隅に預金を残し、大きな面を有しているdeposición. 
堆積プロセスの両方タール、有機ガスをefectiva. ように処理されているような固体粉末中5

オプションの水平CVD炉の設定
1.ゲートオーブンマニュアル閉/自動閉鎖ロックカラー、手動ロック/自動ドアロックカラーbloqueo 
2.コンテナオーブン:完全にすべての炭素鋼/ステンレス鋼インナー層/スチールinoxidable 
前記ホットゾーン炉:フェルトフリー/フリーグラファイトカーボンフェルト/ハード化合物/ CFC フェルト
4.コンポーネント加熱マッフル:グラファイト静水圧プレス/純度高圧、高強度グラファイト及び密度/サイズグラファイトfino. 
5.システムプロセスガス:流量計の体積/質量、手動/自動弁インポートマーク/ china マーク
6.真空ポンプとゲージ:輸入マーク/マークchina 
7. HMI:シミュレーション画面/タッチスクリーン/産業用コンピュータpersonal 
8. PLC(プログラマブル・ロジック・コントロール):オムロン/ Siemens 
9.温度コントローラ:シマデン/ EUROTHERM 
熱電対10:タイプC、S、K、N 
11.レコーダー:ペーパーレスレコーダー/紙、輸入マーク/ china 
12.電気部品:CHINT /シュナイダー/ Siemens 
13. Lastkraftwagen:ローラータイプ/フォーク/折りたたみ型伝導型の長いdistancia 

仕様真空炉カーボンCVD
仕様/モデル HCVD -060609-C HCVD -080812-C -101 015-C HCVD HCVD -121225-C HCVD -151530-C 
作業領域の寸法(W×H×L)(MM)600×900×Φ600800×1200×Φ8001500×1000×Φ1000200×2500×Φ12003000×1500×Φ1500
最高温度(°C)15001500150015001500
均一な温度(℃)7.5±7.5±7.5±±10±10
究極の真空(PA)5050505050
圧力上昇(PA /時間)の範囲0.670.670.670.670.67
上記のパラメータは、プロセスによって要求されるように調整することができ、そして標準として受け入れられる必要はありません。必要な詳細及び仕様は、技術提案とcontratos. に記録されます
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