Descripción ファーネスは、主にC / Cおよびカーボン/セラミック材料製の高性能ブレーキディスクの製造に使用されます。
ディスコカーボセラミスのファブリックデザインの構成1. Puerta del horno：エレベーターの基本/エレベーター/オペレーターマニュアル、cierre manual、anillo tensorautomático.
2. Cubas inferiores de horno：アセトアルデヒド/アセトフェノン不活性/ todo acero inoxidable / Q345Q
3.カロリー・デル・ホーロー：カフェ/ケーキを食べる/食べる/食べる/食べる/食べる/食べる/ CFC KK
4.元素分析：Ni-Cr /グラファイト/グラファイト/ Ni-Cr; Fe-Cr-Nbである。
5.Mufla：純粋なグラファイト、グラファイトのグラファイト/ SUS316L
6.ガスのプロゲステロン：フルイドボリューム/メディドール/フルイドマシコ;自動車マニュアル/自動車オートメーション/ marca extranjera / marca china. K
7. Bombas devacíoymanómetros：marca extranjera / marca china。
8. PLC：オムロン/シーメンス。
9.温度調節器：シマデン/ユーロサーム。
10. Termopares： Tipo C / S / K / N K
11. Medidor infrarrojo： K色/ドスcolores、CHINO / Raytekを作成します。
12. HMI：simulaciónpantalla / pantallatáctil/ computadora industrial personal.
13.構成要素： CHINT / Schneider / Siemens。
14. Frecuenciaeléctricaメディア KICBT / KGPS。
Proceso de trabajo
特定商取引法に基づく表記| C-C /カーボンセラミックブレーキディスクの準備装置 |
| 設備 Type | 化学気相成長炉 | 真空黒鉛炉 |
| 仕様/モデル | VCVD-0610-C | VCVD-1120-C | ICVD-0610-C | ICVD-1120-C | VIG-0610-C | VIG-1120-C | HVG-131320-C |
| 使用可能なスペース（W×H×L）（mm） | φ600×1000 | φ1100×2000 | φ600×1000 | φ1100×2000 | φ600×1000 | φ1100×2000 | 1300×1300×2000 |
| マックス温度（℃） | 1200 | 1200 | 1200 | 1200 | 2600 | 2600 | 2600 |
| 温度均一性（℃） | ±5 | ±7,5 | ±15 | ±20 | ±15 | ±20 | ±10 |
| 究極の真空（Pa） | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
| 装置タイプ | シリコン化炉 | 真空炭化炉 | 真空圧力含浸炉 |
| 仕様/モデル | ISII-0610 | ISII-1120 | VSII-131320 | VVCI-0608 | VVC-1015 | VPII-0608 | VPI-1015 |
| 使用可能なスペース（W×H×L）（mm） | φ600×1000 | φ1100×2000 | 1300×1300×2000 | φ600×800 | φ1000×1500 | φ600×800 | φ1100×1500 |
| 気温（°C） | 2000年 | 2000年 | 2000年 | 1000 | 1000 | 400 | 400 |
| 温度均一性（℃） | ±7,5 | ±7,5 | ±10 | ±7,5 | ±10 | ±10 | ±15 |
| アルティメートバキューム（Pa） | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
| 究極の真空（MPa） | / | / | / | / | / | 5 | 5 |
