C-C / Fazendo freios a disco Equipamento carbocerámicos

Descrição 
O forno é usado principalmente para a produção de discos de freio de alto desempenho feitos de materiais C / C e carbono / cerâmica.

Configuração opcional para C-C / Equipamentos de fabricação de frenos de disco carbocerámicos
1. Puerta del horno: rosca principal de elevação / elevação hidráulica / rosca de operação manual, cierre manual, anel tensor automático. 
2. Cubas inferiores de horno: todo de aço ao carbono / revestimiento interno de aço inoxidável / todo aço inoxidável / Q345Q
3. Zona de calor do horno: fieltro suave de carbono / fieltro suave de grafito / fieltro duro combinado / ladrillo refractorio + fibra cerâmica / CFC 
4. Elementos calefactores: imprensa isostática de grafito / grafito fino / Ni-Cr; Fe-Cr-Nb.
5.Mufla: grafito de pureza, força e densidade alta / graduação de grafito fino / SUS316L
6.Sistema de processamento de gás: medido de fluxo volumétrico / medidor de fluxo maisico; Válvula manual / válvula automática / marca estrangeira / marca china. 
7. Bombas de vácuo e manómetros: marca extranjera / marca china.
8. PLC: OMRON / Siemens.
9. Controlador de temperatura: SHIMADEN / EUROTHERM.
10. Termopares:  Tipo C / S / K / N 
11. Medidor infravermelho: De un  color / de dos colores, CHINO / Raytek.
12. HMI: tela de simulação / tela táctil / computadora pessoal industrial. 
13. Componentes eléctricos:  CHINT / Schneider / Siemens.
14. Frecuencia eléctrica media  ICBT / KGPS.

Proceso de trabalho

Especificações 

Equipamento de preparação de discos de freio C-C / carbono-cerâmico
Equipamento Tipo	Forno químico de deposição de vapor				Forno de grafitização a vácuo
Especificação / modelo	VCVD-0610-C	VCVD-1120-C	ICVD-0610-C	ICVD-1120-C	VIG-0610-C	VIG-1120-C	HVG-131320-C
Espaço utilizável (W × H × L) (mm)	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	1300 × 1300 × 2000
Max. Temperatura (° C)	1200	1200	1200	1200	2600	2600	2600
Uniformidade da temperatura (° C)	± 5	± 7,5	± 15	± 20	± 15	± 20	± 10
Vácuo final (Pa)	50	50	50	50	50	50	50
Tipo de equipamento	Forno de siliconização			Forno de carbonização a vácuo		Forno de impregnação por pressão de vácuo
Especificação / modelo	ISII-0610	ISII-1120	VSII-131320	VVCI-0608	VVC-1015	VPII-0608	VPI-1015
Espaço utilizável (W × H × L) (mm)	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	1300 × 1300 × 2000	Φ600 × 800	Φ1000 × 1500	Φ600 × 800	Φ1100 × 1500
Temperatura máxima (° C)	2000	2000	2000	1000	1000	400	400
Uniformidade da temperatura (° C)	± 7,5	± 7,5	± 10	± 7,5	± 10	± 10	± 15
Ultimate Vacuum (Pa)	50	50	50	50	50	50	50
Ultimate Vacuum (MPa)	/	/	/	/	/	5	5