C-C / het maken van apparatuur Schijfremmen carbocerámicos

Descripción 
De oven wordt voornamelijk gebruikt voor de productie van hoogwaardige remschijf van C / C en Koolstof / keramische materialen.

Configuración opcional para C-C / Equipos de fabricación de disco carbocerámicos
1. Puerta del horno: Rosca Principal de Elevación / Elevación Hidráulica / Rosca de Operation Manual, Cierre Manual, Anillo Tensor Automático. 
2. Cubas inferiores de horno: de acero al carbono / revestimiento interno de acero inoxidable / todo acero inoxidable / Q345Q
3. Zona de calor del horno: Fieltro suave de carbón / Fieltro suave de grafito / fieltro Duro combinado / ladrillo refractorio + fibra cerámica / CFC 
4. Elementen calefactoren: Prensa isostática de grafito / grafito fino / Ni-Cr; Fe-Cr-Nb.
5.Mufla: Grafito de pureza, Fuerza y ​​densidad altas / graduación de grafito fino / SUS316L
6.Sistema de processado de gas: medido de flujo volumétrico / medidor de flujo másico; Válvula manual / Válvula automática / Marca extranjera / marca china. 
7. Bombas de vacio y manómetros: Marca extranjera / marca china.
8. PLC: OMRON / Siemens.
9. Controlador de temperatuura: SHIMADEN / EUROTHERM.
10. Termopares:  Tipo C / S / K / N 
11. Medidor infrarrojo: De un  color / de dos colours, CHINO / Raytek.
12. HMI: Pantalla de simulación / Pantalla táctil / computadora industrial personal. 
13. Componenten van elektrische componenten:  CHINT / Schneider / Siemens.
14. Frecuencia eléctrica media  ICBT / KGPS.

Proceso de trabajo

Especificaciones 

C-C / Koolstof-keramische remschijf voorbereiding apparatuur
Equipment Type	Chemische dampafzettingsoven				Vacuüm grafitisatieoven
spec / Model	VCVD-0610-C	VCVD-1120-C	ICVD-0610-C	ICVD-1120-C	VIG-0610-C	VIG-1120-C	HVG-131320-C
Gebruikbare ruimte (W × H × L) (mm)	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	1300 × 1300 × 2000
Max. Temperatuur (° C)	1200	1200	1200	1200	2600	2600	2600
Temperatuuruniformiteit (° C)	± 5	± 7,5	± 15	± 20	± 15	± 20	± 10
Ultiem vacuüm (Pa)	50	50	50	50	50	50	50
Type apparaat	Siliconiserende oven			Vacuümcarbonisatieoven		Vacuümdruk impregnatieoven
spec / Model	ISii-0610	ISii-1120	VSII-131320	VVCI-0608	VVC-1015	VPII-0608	VPI-1015
Gebruikbare ruimte (W × H × L) (mm)	Φ600 × 1000	Φ1100 × 2000	1300 × 1300 × 2000	Φ600 × 800	Φ1000 × 1500	Φ600 × 800	Φ1100 × 1500
Temperaturen (° C)	2000	2000	2000	1000	1000	400	400
Temperatuuruniformiteit (° C)	± 7,5	± 7,5	± 10	± 7,5	± 10	± 10	± 15
Ultimate Vacuum (Pa)	50	50	50	50	50	50	50
Ultimate Vacuum (MPa)	/	/	/	/	/	5	5